真空泵厂家分析如何优化真空压力控制系统。真空泵厂家分析如何优化真空压力控制系统。芯片蚀刻工艺通常在受控的真空环境中工作。反应空腔的功能是去除真空环境中保持工艺参数所需的不必要的水蒸气、空气和额外的反应物质。为等离子体发生反应创建能够的真空环境。为了降低蚀刻机真空压力控制系统的成本，实现高真空获取设备的清洁、简化和小型化，同时为了提高真空系统的抽真空率和极限真空，系统中腔体、真空泵、连接管道和阀门的选择非常重要。
为了确保蚀刻工艺所需的蚀刻机压力的稳定运行，大泵速真空系统是要求小于不可的组成部件。真空泵厂家详细介绍了真空泵的反应室、选择、真空阀的选择、真空计和真空检测开关、真空计和真空检测开关以及连接管道。
凯发k8娱乐-k8凯发分析如何优化真空压力控制系统。从以下五个方面展开:
(1)反应腔
反应腔是真空系统的基本部件。不同的蚀刻反应腔具有不同的形状和尺寸，但是所有的属于容器都处于负压下。为了增加芯片容量，反应腔体采用多工位设计，要求真空泵的泵速满足其要求。在多工位设计中，很难保证多工位芯片的一致性。真空泵的泵送速率必须增加。分子泵是最好的选择。根据不同工艺的需要，反应室压力一般的工作在10-3-10-2托之间。确保反应室的真空度和压力、确保、反应室在稳定真空下的工作一直是真空泵厂家的研究课题。
(2)真空泵选择
真空泵是获得真空的关键设备。到目前为止，还没有一种泵能从大气压工作到接近超真空。两个或多个泵必须组合使用和螺旋干式泵属于容积泵类型。其工作循环可分为吸入、压缩和排出三个过程。其优点结构稳定，重心低，转动稳定，振动小，噪音低。分子泵包括牵引分子泵、涡轮分子泵和复合分子泵等。分子泵的选择根据蚀刻反应空腔压力和体积而变化。
(3)真空阀选用选择摆阀是为了满足分子泵大口径尺寸的需要。当摆阀的开度大于反应室的压力时，其将减小。然而，当开口大于某个程度时，反应室的真空将由于泵的有限泵送速度而受到限制，并且压力的真空将降低为不能继续。因此，为了满足压力蚀刻工艺中的要求，需要正确打开选择摆阀。
(4)真空计和真空检测开关
真空计可以随时监控管道的反应室和压力。真空计安装在反应室和管道上。当真空度达到一定值时，真空阀打开或关闭。真空计分类方法主要有两种:①根据真规读数的标度方法进行分类，即绝对真空计和相对真空计;(2)根据真空计的测量原理进行分类，即直接测量真空计和间接测量真空计。薄膜电容真空计是一种间接绝对真空计。具有因其性能稳定、重复性好、响应速度快、抗过载能力强、结构牢固、使用方便而被广泛应用于工业中。出于安全原因，真空管道必须配备大气真空开关。当压力值达到一个大气压时，真空开关将自动打开排气口，以保护反应腔和管道系统的真空仪器。
(5)连接管
凯发k8娱乐-k8凯发最重要的性能参数是它能获得的极限真空度和反应腔的有效泵送速度。真空系统的极限真空度是指在泵送时间足够长的时间而没有额外负载后，系统能够达到的最低真空度压力。
进口真空泵厂家表示，现象对于任何真空系统都绝对无泄漏，能够实现不可，因此需要在真空管路上提供检漏口，以方便真空检漏。