真空系统应用于半导体工业还是比较多的。接下来，介绍我们就来介绍真空系统的内容。
通过真空系统的设计，在单个生产机器上，更多的单个泵被几个更大的凯发k8娱乐-k8凯发代替。自动变频控制系统通过储气罐的主支管配置并连接到生产机器上。真空供应根据生产要求全自动，节能、低成本、维护方便、性能稳定。员工工作区域的噪音水平大大降低，以满足半导体行业的技术要求。
1.生产用真空主要是通过高真空减少工作空间的空气，保持工作空间的清洁。所用真空泵的主要类型包括干式泵(干式螺旋真空泵、爪式泵)、分子泵及其装置。生产用真空设备数量多，功率小。
2.清洁真空主要利用负压和大气压之间的差异来清洁或输送液体或颗粒。对于这些应用，主要使用水环泵和多级离心风扇。由于真空度低，通常采用多级离心风机，真空源是其系统的一部分。
3.工艺真空主要采用工件搬运负压吸附或夹紧。螺杆泵、爪式泵、水环泵、旋转叶片泵和微油螺杆泵等干式泵都是过程真空中常见的真空设备。
真空泵 控制系统 储气罐 管道安装
1、防止真空泵温度过高：
真空泵温度过高会影响真空度和排气量，对生产有直接影响。在半导体在真空泵的应用中，有害气体比较多，而无论是干式真空泵还是油封机械泵，泵腔内温度过高，高温下易燃易爆及有毒气体就会容易发生危险。
2、半导体真空泵有效稀释有害气体的浓度：
半导体易产生前面所说的易燃易爆、有毒的有害气体。所以半导体真空泵应用中在抽取这些介质时就必须防止它们在真空泵内或者排气过程中发生一些不可控的反应。
比如sih4、ph3、ash3、b2h6等物质，在与空气或氧接触的时候，会引起燃烧甚至爆炸;氢气在空气中的混合比例达到一定程度与温度时也会发生燃烧。这些都取决于该物质的量以及与环境的压力、温度的关系。因此半导体真空泵在抽取这些介质时，需要用氮气之类的惰性气体，在压缩前即将这些气体稀释到当时条件下的安全范围.
3、真空泵注意氧气的浓度：
空气中的氧如果浓度过高也会发生燃烧及爆炸风险。所以一些情况下需注意氧的浓度，采用惰性气体来稀释，防止浓度过高;假设是油封机械泵可能还需要采用一些惰性的与氧相容的真空泵油，并及时更换油滤和油品。
4、定期清洗真空泵及其他附件、过滤、管道，避免超压：
半导体真空泵应用时，抽取介质过程中经过反应室与真空泵，其成分可能极为复杂，如sih4与o2在泵口形成sio2，ticl4水解会形成hcl;假设是油封式机械泵，这些气体物质还可能与泵油发生化反。这些变化假设形成颗粒、可凝物或者腐蚀性介质，就可能堵塞真空泵或管路系统，影响真空泵性能，造成压力上升或超压，一点中提到的危险性也更大。所以需要及时的清洗，并在必要的时候设置过滤设备。